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本文標(biāo)題:圓柱形試件拋光-元件實(shí)驗(yàn)拋光之影響

信息分類:行業(yè)動(dòng)態(tài) 新聞來源:未知 發(fā)布時(shí)間:2012-10-29 23:09:42
圓柱形試件拋光可以分為好幾種,特別是繞射式元件新型的拋光法,
而各參數(shù)對圓柱件實(shí)驗(yàn)拋光之影響又可細(xì)分為改變拋光具內(nèi)孔的安排,確實(shí)會(huì)影響加工效率、磨粒顆粒越大加工效率較大、拋光液濃度越高所需的時(shí)間越少等等;

各參數(shù)對繞射元件實(shí)驗(yàn)拋光之影響分為下列幾項(xiàng):
(A)工件與拋光具的間隙大小,間隙越大材料移除率小,但尖點(diǎn)高度降低較小,
(B)轉(zhuǎn)速越高材料移除量也越高,但尖點(diǎn)高度降低多,(C)拋光液的濃度越高也會(huì)影響材料移除量,也會(huì)使得尖點(diǎn)高度下降快。
除此之外,如同前言所講的,UV繞射式拋光法比傳統(tǒng)拋光要來的好,可以由幾次學(xué)長所做出的試件中,然后用VK-9700明顯看出來,
拋光后明顯比拋光前,表面粗操度要來的小,也證明了精密加工的過人之處。

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