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本文標(biāo)題:對(duì)于石蠟塊的修整條件要求

信息分類:站內(nèi)新聞 新聞來源:未知 發(fā)布時(shí)間:2015-7-24 13:24:42
對(duì)于石蠟塊的修整條件要求

修整石蠟塊的主要要求是根據(jù)修理的目的進(jìn)行決定
的,而對(duì)于石蠟塊的一個(gè)整體來說,它的修整的目
的在于對(duì)石蠟塊切片后不發(fā)生彎曲現(xiàn)象。

同時(shí)還需要避免切成石蠟塊的石蠟片在一條直線上
,還可以使切成的樣品標(biāo)本結(jié)構(gòu)組織的距離相接近
,可以更加方便的對(duì)其進(jìn)行顯微觀察檢測(cè)。

因此為了對(duì)石蠟塊的修整目的就需要在修整時(shí),將
石蠟塊上下兩個(gè)表面修整成一個(gè)平行的表面,這樣
也可以方便切割。

如果石蠟塊上下修整不平行,則在切割時(shí)就會(huì)發(fā)生
彎曲的現(xiàn)象,切片也不容易,而殘留在石蠟塊表面
的蠟太多會(huì)影響顯微觀察。

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本文出自上海永亨光學(xué)儀器有限公司,本文地址:http://m.broadwishfurniture.com/xinwen/1719.html  
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